专利详情

专利名称	一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材
申请号	CN201120363968.2	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202226910U	公开（授权）日	2012.05.23
申请（专利权）人	中国科学院金属研究所	发明（设计）人	孙超;常正凯;肖金泉;宫骏;华伟刚;陈育秋
主分类号	C23C14/32(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/32(2006.01)I
专利有效期	一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材至一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材	法律状态	授权
说明书摘要	本实用新型属于薄膜制备领域，具体地说是一种用于电弧离子镀沉积磁性材料涂层的复合结构靶材。复合结构靶材为靶壳及磁性材料靶材构成，靶壳紧固于磁性材料靶材外围；其中，靶壳为低饱和蒸气压和低二次电子发射产额的金属靶壳；或者，靶壳为陶瓷相材料层依附于可加工金属环上形成的靶壳，可加工金属环紧固于磁性材料靶材外围，陶瓷相材料层依附于可加工金属环在与磁性材料靶材的靶面平行方向的面上。本实用新型解决了电弧离子镀难于沉积磁性材料涂层的难题，以及铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时，降低了靶材使用寿命，难以在工业上应用的问题等，提出一种装置制作简单、成本低廉的复合结构靶材的设计思路，拓展了电弧离子镀的应用范围。