专利详情

专利名称	氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用
申请号	CN201010106871.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101818047A	公开（授权）日	2010.09.01
申请（专利权）人	中国科学院上海微系统与信息技术研究所	发明（设计）人	张泽芳;刘卫丽;宋志棠
主分类号	C09K3/14(2006.01)I	IPC主分类号	C09K3/14(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;H01L21/762(2006.01)I;B24B7/24(2006.01)I
专利有效期	氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用至氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用	法律状态	专利申请权、专利权的转移
说明书摘要	本发明属于微电子加工中的化学机械抛光浆液领域，具体涉及氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒及其制备和应用。本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒包含氧化硅和氧化铈，且所述复合磨料颗粒的内核为球形氧化硅内核，外壳为氧化铈包覆层。由本发明的氧化硅-氧化铈核壳复合磨料颗粒配制成的抛光液对超大规模集成电路玻璃、二氧化硅介质层和STI进行抛光，可以提高抛光去除率和抛光选择比，减少抛光缺陷。