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折反射式凸面光栅成像光学系统

  • 申请号:CN02136154.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
  • 公开(公开)号:CN1391090
  • 公开(公开)日:2003.01.15
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 折反射式凸面光栅成像光学系统
申请号 CN02136154.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1391090 公开(授权)日 2003.01.15
申请(专利权)人 中国科学院上海技术物理研究所 发明(设计)人 沈蓓军;刘宝丽;刘银年;王建宇;薛永祺
主分类号 G01J3/18 IPC主分类号 G01J3/18;G01J3/28
专利有效期 折反射式凸面光栅成像光学系统 至折反射式凸面光栅成像光学系统 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种用于机载或星载对地观察超 光谱成像仪的折反射式凸面光栅成像光学系统,该系统通过在 依次由凸球面光栅和凹球面反射镜构成的同轴形式的离轴三 反镜成像光学系统前增加折射透镜,使系统的象差得到进一步 校正,从而保证系统在保持同轴形式的情况下可以获得与离轴 式成像光谱仪相当的像质。该系统结构简单,元件加工及系统 装调较离轴系统容易。它主要应用于机载或星载对地观察超光 谱成像仪器中观察地物的光谱特性,也可用于医学、矿产等领 域对物体的形状及光谱特性进行分析。

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