专利详情

专利名称	均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法
申请号	CN201110350587.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102375238A	公开（授权）日	2012.03.14
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	朱菁;陈明;黄惠杰;曾爱军;胡中华;杨宝喜;肖艳芬
主分类号	G02B27/09(2006.01)I	IPC主分类号	G02B27/09(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法至均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种用于紫外光刻机照明系统产生均匀照明的微柱面镜阵列及其设计方法，所述的微柱面镜阵列，包括母线方向分别沿Y和X方向的第一微柱面镜阵列和第二微柱面镜阵列，分别用于产生Y和X方向的均匀光强分布，所述的微柱面镜阵列的表面为凸柱面透镜及其之间的凹形接缝平滑连接的周期排列结构。本发明提高了光刻机照明系统的照明均匀性，有利于降低加工和装配的成本。该设计方法适用于任何紫外光波段的微柱面镜阵列设计。