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一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法

  • 申请号:CN201310068781.3
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
  • 公开(公开)号:CN103107096A
  • 公开(公开)日:2013.05.15
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法
申请号 CN201310068781.3 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103107096A 公开(授权)日 2013.05.15
申请(专利权)人 中国科学院半导体研究所 发明(设计)人 周旭亮;于红艳;李梦珂;潘教青;王圩
主分类号 H01L21/336(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/336(2006.01)I
专利有效期 一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法 至一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法,包括以下步骤:步骤1:在硅衬底上,生长锗层;步骤2:将生长了锗层的硅衬底放入MOCVD反应室中,分别生长低温成核砷化镓层和高温砷化镓层;步骤3:停止生长,更换衬底舟和反应室内管,高温退火30分钟后,在高温砷化镓层上生长半绝缘InGaP层;步骤4:在半绝缘InGaP层上生长薄砷化镓层以及砷化镓基nMOS结构;步骤5:制作栅氧化物、源极、栅极和漏极,完成硅基III-V族nMOS器件的制备。

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