
一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法
- 申请号:CN201310068781.3
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院半导体研究所
- 公开(公开)号:CN103107096A
- 公开(公开)日:2013.05.15
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法 | ||
申请号 | CN201310068781.3 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103107096A | 公开(授权)日 | 2013.05.15 |
申请(专利权)人 | 中国科学院半导体研究所 | 发明(设计)人 | 周旭亮;于红艳;李梦珂;潘教青;王圩 |
主分类号 | H01L21/336(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/336(2006.01)I |
专利有效期 | 一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法 至一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种硅基III-V族nMOS器件的制作方法,包括以下步骤:步骤1:在硅衬底上,生长锗层;步骤2:将生长了锗层的硅衬底放入MOCVD反应室中,分别生长低温成核砷化镓层和高温砷化镓层;步骤3:停止生长,更换衬底舟和反应室内管,高温退火30分钟后,在高温砷化镓层上生长半绝缘InGaP层;步骤4:在半绝缘InGaP层上生长薄砷化镓层以及砷化镓基nMOS结构;步骤5:制作栅氧化物、源极、栅极和漏极,完成硅基III-V族nMOS器件的制备。 |
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