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高反射率凹面锥形反射镜的面形检测方法

  • 申请号:CN201210573251.X
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN103075975A
  • 公开(公开)日:2013.05.01
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 高反射率凹面锥形反射镜的面形检测方法
申请号 CN201210573251.X 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103075975A 公开(授权)日 2013.05.01
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 袁乔;曾爱军;张善华;黄惠杰
主分类号 G01B11/24(2006.01)I IPC主分类号 G01B11/24(2006.01)I
专利有效期 高反射率凹面锥形反射镜的面形检测方法 至高反射率凹面锥形反射镜的面形检测方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种高反射率凹面锥形反射镜的面形检测方法,包括以下步骤:制作部分透光平板;在移相干涉仪输出的平行光束方向依次设置所述的部分透光平板和待测高反射率凹面锥形反射镜,所述的待测高反射率凹面锥形反射镜的锥面朝向移相干涉仪的出光方向;调整光路;利用移相干涉仪检测干涉条纹,得到所述的高反射率凹面锥形反射镜的面形信息。本发明具有操作简单,易于测量,对测量件无损伤等优点。

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