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制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法

  • 申请号:CN201210535592.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:深圳先进技术研究院;香港中文大学
  • 公开(公开)号:CN103022249A
  • 公开(公开)日:2013.04.03
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法
申请号 CN201210535592.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103022249A 公开(授权)日 2013.04.03
申请(专利权)人 深圳先进技术研究院;香港中文大学 发明(设计)人 陈旺寿;肖旭东;张撷秋;刘壮;顾光一;杨春雷;宋秋明
主分类号 H01L31/18(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/18(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I
专利有效期 制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法 至制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种制备铜铟镓硒光吸收层的装置,包括真空系统和衬底传动系统,由真空系统维持真空的进样室、镀膜室及出样室;衬底传动系统包括衬底传动装置和衬底装载装置;镀膜室包括第一镀膜室,用于在衬底上沉积铟、镓和硒,并维持衬底温度在350~400℃;第二镀膜室,用于在硒蒸汽的气氛下在衬底上沉积铜,并维持衬底温度在550~650℃;第三镀膜室,用于在硒蒸汽的气氛下在衬底上继续沉积铜,并维持衬底温度在550~650℃;蒸发监控装置,蒸发监控装置用于监测衬底表面温度、衬底在监测读数快速上升的时候离开第三镀膜室;第四镀膜室,用于在硒蒸汽的气氛下在衬底上沉积铟、镓和硒,并维持衬底温度在550~650℃。本发明还提供一种制备铜铟镓硒光吸收层的方法。

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