制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法
- 申请号:CN201210535592.8
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:深圳先进技术研究院;香港中文大学
- 公开(公开)号:CN103022249A
- 公开(公开)日:2013.04.03
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法 | ||
申请号 | CN201210535592.8 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103022249A | 公开(授权)日 | 2013.04.03 |
申请(专利权)人 | 深圳先进技术研究院;香港中文大学 | 发明(设计)人 | 陈旺寿;肖旭东;张撷秋;刘壮;顾光一;杨春雷;宋秋明 |
主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I |
专利有效期 | 制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法 至制备铜铟镓硒光吸收层的装置和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种制备铜铟镓硒光吸收层的装置,包括真空系统和衬底传动系统,由真空系统维持真空的进样室、镀膜室及出样室;衬底传动系统包括衬底传动装置和衬底装载装置;镀膜室包括第一镀膜室,用于在衬底上沉积铟、镓和硒,并维持衬底温度在350~400℃;第二镀膜室,用于在硒蒸汽的气氛下在衬底上沉积铜,并维持衬底温度在550~650℃;第三镀膜室,用于在硒蒸汽的气氛下在衬底上继续沉积铜,并维持衬底温度在550~650℃;蒸发监控装置,蒸发监控装置用于监测衬底表面温度、衬底在监测读数快速上升的时候离开第三镀膜室;第四镀膜室,用于在硒蒸汽的气氛下在衬底上沉积铟、镓和硒,并维持衬底温度在550~650℃。本发明还提供一种制备铜铟镓硒光吸收层的方法。 |
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接,价格透明
2、平台验证,实名审核
3、合同监控,代办手续
4、专员跟进,交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言