专利详情

专利名称	一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔
申请号	CN201120352700.9	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202307811U	公开（授权）日	2012.07.04
申请（专利权）人	中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心	发明（设计）人	李超波;黄成强;陈波;饶志鹏
主分类号	H01L21/3065(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/3065(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I
专利有效期	一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔至一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔	法律状态	授权
说明书摘要	一种干法刻蚀坚硬无机材料基板ICP刻蚀机的预真空腔，包括腔体，所述腔体上安装有腔盖，所述腔盖上开有片盘取放口，所述片盘取放口处设置有盖子，所述腔体的一侧面上开有片盘进出口，所述片盘进出口处设有阀门，所述腔体上设有用于与机械泵连接的机械泵接口、用于与进气管道连接的进气管道接口，所述腔体内底面上开有导轨槽，所述导轨槽内安装有沿其运动的导轨器，所述导轨器上连接有输送片盘的机械手；所述导轨器与带动其运动的丝杆连接，所述丝杆可转动的安装在腔体内，其一端穿出腔体与伺服电机连接，所述伺服电机固定在腔体的底部。本实用新型的有益效果：机械手的运输机制更简单可靠、成本低。