一种光刻机中照明系统各光学组件透过率的测量装置及测量方法
- 申请号:CN201310013193.X
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
- 公开(公开)号:CN103105284A
- 公开(公开)日:2013.05.15
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种光刻机中照明系统各光学组件透过率的测量装置及测量方法 | ||
申请号 | CN201310013193.X | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103105284A | 公开(授权)日 | 2013.05.15 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明(设计)人 | 邢莎莎;廖志杰;林妩媚 |
主分类号 | G01M11/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01M11/02(2006.01)I |
专利有效期 | 一种光刻机中照明系统各光学组件透过率的测量装置及测量方法 至一种光刻机中照明系统各光学组件透过率的测量装置及测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种光刻机中照明系统各光学组件透过率的测量装置及测量方法,该测量装置包括光源,能量衰减装置,光路分离元件,光路调整元件,待测光学组件,光束接收与探测单元,数据处理和控制系统。用分光镜将准分子激光光源的光束分为测试光路和参考光路;将待测光学组件移出光路中,记录空测时两个通道的测量数据;将待测光学组件移入光路中,用光路调整元件调整入射到待测光学组件上的光束入射角度,记录实测时两个通道的测量数据;将空测和实测时的测量数据进行处理,计算出待测光学组件的透过率。本发明用该装置和方法测量光刻机中照明系统各待测光学组件的透过率,具有较高的测量精度和测量多功能性。 |
交易流程
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专利 -
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